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买不到荷兰的AMSL的光刻机,中国到底能否造出芯片啊?
网友【lookback】 2020-09-09 08:22:15 分享在【时代发展的印记】版块    6760    1    1

随着国内半导体行业日渐成熟,近两年,国产芯片的发展速度也得到了飞速的提升,在国产芯片设计研发上,众多国产企业——华为海思、紫光展锐、达摩院等,都已经接连传出设计研发成功的好消息,而在芯片制作上,一直被寄予厚望的中芯国际也实现了重大突破。

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中芯国际在2018年,向荷兰的AMSL公司,购买过一台EUV光刻机,但直到现在依旧没有完成交付,EUV光刻机是目前最先进的光刻机技术,可以轻松的制作出主流芯片市场上所需的7nm芯片,乃至5nm、3nm,而这项技术完全被荷兰AMSL公司垄断。

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中芯国际另辟蹊径,有望打破7纳米芯片垄断:

其实,制作7nm芯片的方法,不仅仅必须依靠EUV光刻机,曾在EUV刚刚问世的时候,知名芯片制作企业——台积电,其内部曾经自研出了一套,仅依靠DUV(深紫外光)光刻机制作出7nm芯片的办法,这套方法被称为FinFET工艺(胡正明教授带领团队研制成功的),它可以将DUV潜能发挥极致,通过多次曝光的手段得到7nm芯片。

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当然,这种通过DUV制作7nm芯片技术,也存在了一定的缺点,比如,为了得到精度更高的芯片,在多次曝光之后,它的良品率会大大下降,还有实际操控的难度也相对会加大。

但是,从另一个角度来看,台积电还是成功的将DUV的工艺提高到了7nm,有了这个先例,也就侧面说明,同样做芯片制作的中芯国际,如今就算没有得到荷兰的EUV光刻机,依靠DUV光刻机也是有可以做出7nm芯片的可能的,这并不能决定中国芯片什么。

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而且,中芯国际,一直在憋着新的大招,在梁孟松教授(胡正明的学生),加入中芯国际以后,中芯国际仅用2年的时间,就在没有EUV光刻机的情况下,完成了芯片工艺的升级,直接突破了14nm技术的瓶颈,而这仅仅是中芯国际发力的开始。

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随后,中芯国际,又另辟蹊径,研制出了一种新的制作芯片"N+1"技术,并且经过芯片市场数据测试,效果惊奇,竟与台积电第一代7nm芯片的数据吻合度,相差无几,而且,同时中芯国际,还透露出,N+1技术升级版的N+2技术的研发工作,也早已提上日程,N+2将会更加注重芯片制作工艺的性能,一旦研发成功,效果会更加接近主流市场7nm芯片的标准。

中芯国际,N+1和N+2技术的问世,为技术贫乏的国产芯片制作领域,带来了新的生机,大家,对此,有什么看法吗?

出处:见配图水印

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1   2020-09-09 08:22:15  回复

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