在大部分人的认知中，想要生产7nm，5nm这类高端芯片，必须使用EUV光刻机。通过极紫外光对晶圆进行曝光处理，把芯片电路图刻制的晶圆当中。

芯片制程越高，对光刻机的要求也越大。但有没有想过不用EUV光刻机也能造5nm芯片？关于这一点，日本企业开发了新工艺，或能变成现实。如果新工艺大获成功，意味着什么？

日本巨头开发新型半导体工艺

当下的半导体发展模式延续了几十年，从设计到制造，再到封装等等一系列的环节都已经取得完善的产业链。很多相应的技术也是基于这类的模式而诞生，为芯片产业提供基础保障。

比如使用EUV光刻机造5nm芯片，成为了行业发展的共识。即便不是5nm，要想生产14nm，28nm等等工艺制程的芯片，也要用上光刻机。

然而打破这项共识的是，日本巨头铠侠开发了新型半导体工艺，采用新的生产技术实现芯片量产。这是怎样的工艺技术呢？

根据媒体报道，存储巨头日本铠侠公司在2017年时，就开始探索新工艺，与半导体设备厂商佳能，光罩制造商DNP进行合作。专门研发一项纳米压印微影技术（NIL），目前铠侠已经掌握了15nm的芯片量产技术，并正在尝试研发15nm以下的量产工艺，目标直指5nm。

铠侠的这项NIL技术意义重大，放眼全球半导体行业，一直遵循传统的工艺制造方法。历经几十年的研发和投入不计其数的资源，终于完成了一整套制造流程，解决各种芯片生产中的难题。

最重要的是，在这套流程下生产制造出7nm，5nm等高端工艺。这足以证明，这套工艺流程是没有问题的。而这时候铠侠开发出新工艺，无疑将打破现有的芯片制造流程，如果证实了这套新工艺的可行性，恐怕半导体行业会出现新的市场格局。

其中有一项验证就是，不用EUV光刻机是否也能造出高端5nm芯片。

不用EUV也能造5nm芯片吗？

半导体行业的发展基本上达到一个瓶颈，摩尔定律肯定会失效，芯片的物理极限想要打破变得更加困难。未来几十年的芯片制造行业，或许真的芯片新工艺去开创市场环境。

但前提是能够超越现有的生产制造流程，做得比现在的芯片制造模式还要好。所以业内会比较关注一个问题，那就是依靠铠侠的NIL新工艺，可以不用EUV光刻机也能造5nm芯片吗？

相信这也是比较多人关心的话题，首先对比NIL技术和EUV极紫外光技术，NIL可以带来更低幅度降低能耗，减少生产设备的成本。一台EUV光刻机造价1.2亿美元，这样的价格是非常昂贵的，内含10万个零部件生产难度也非常大。

而NIL技术的运用可以减少40%的设备投资成本，并降低10%的耗电量。

其次NIL电路精细程度可和5nm相媲美，达到和极紫外光几乎一致的精密程度。

其实从原理上来看，纳米压印微影和极紫外光其实是有共同之处的，都是把晶体管电路以类似照片冲洗印刷的方式，曝光在硅片晶圆上。最终把晶圆分割成一块块指甲盖大小的芯片，进行后续的生产流程。

所以大致可以判断，NIL和EUV技术是能够形成一定替代关系，从理论来说，采用NIL技术后，不用EUV也能造5nm芯片或许真能变成现实。

如果新工艺大获成功，意味着什么？

铠侠等厂商研发的NIL技术可能要刷新对半导体行业的认知了，一般情况下，芯片制造商都必须通过EUV光刻机才能生产出高端芯片。可结果铠侠研发的新技术有可能打破这一规律。一旦新工艺大获成功，意味着什么？

首先是冲击ASML的市场地位。

恐怕ASML也没料到，一切都来得如此之快。ASML引以为傲的就是EUV光刻机了，因为只有ASML能生产这台设备，所以奠定了其垄断高端光刻机的市场地位。万一将来不用EUV光刻机也能够生产出高端芯片，可以预料到会冲击ASML的市场地位。

试想一下，一个价格，能耗和成本都更低的设备，同样可以造出5nm芯片，各方企业肯定会选择入手。放弃价格昂贵，能耗超高的EUV光刻机。没有了EUV光刻机这张王牌，ASML还能维持现在的地位吗？答案不言而喻。

其次改变现有的半导体生产模式，提供下一个芯片时代的新思路。

摩尔定律即将走到尽头已经是业内公认的事实，想要突破3nm以下的制程工艺，仅凭现有的材料和技术可能还无法做到。或许需要挖掘更多的未来出路，其中发展新工艺，新材料是有一定必要的。

而NIL技术或许就是其中一条出路，如果可行的话，将改变现有的半导体生产模式。提供下一个芯片时代发展的新思路。

总结

芯片行业发展至今攻克了非常多的困难，在一定程度上进行新的尝试未必不可行。科技的进步就是在不断探索中前行，铠侠如果真能攻克至5nm的话，恐怕半导体行业将迎来新的时代。到时候ASML该何去何从，就看他自己了。

你认为铠侠的NIL技术可行吗？

撰文：头条号 @趣味科技秀