(水裳) 2005 年 9 月 21 日，北京讯――当前，Intel公司正致力开发其高性能65 纳米(nm)逻辑制程的超低功耗版，以支持面向移动平台和小型设备的超低功耗芯片的生产。这种超低功耗制程将会是Intel第二代基于65 纳米制造技术的芯片制程。

Intel65 纳米(1 纳米是 1 米的十亿分之一)高性能制程较Intel当前行业领先的 90 纳米制程在功耗和性能方面双双胜出。Intel此种超低功耗65纳米的工艺制程为Intel芯
片设计人员提供了更多选择，以满足电控设备用户对于电路密度、性能及功耗的各种需求。

Intel移动平台事业部副总裁兼总经理 邓慕理(Mooly Eden) 表示：“人们渴望拥有能最大限度延长电池使用时间的移动平台，此类产品将借我们的新型超低功耗制程得到显著增强。同时，我们将设计未来的移动平台，以充分利用这两种领先 65 纳米制程的强大优势。”

降低芯片功耗的因素之一便是改进晶体管的设计，这一点对于移动设备和电控设备来说尤为重要。这些微小晶体管即使是在“关闭”状态下,也会出现的漏电现象，对于整个行业也是一个巨大挑战。

Intel高级院士兼制程架构与集成部门总监Mark Bohr这样讲到：“当前某些芯片上晶体管数目已超过十亿，很明显，单个晶体管的改进能够为整台设备带来数倍的性能提升。对采用Intel超低功耗65纳米制程技术的芯片作测试表明，通过利用我们的标准制程，晶体管渗漏问题降低了大约1000倍。这就为采用此项技术的设备用户大大节省了功耗。”

Intel超低功耗65纳米制程技术

Intel超低功耗65纳米制程技术包括多项关键的晶体管改进，在实现低功耗的同时提供了业界领先的高性能。这些改进大大减少了三种主要的晶体管渗漏：次临界渗漏、接合点渗漏以及栅氧化层泄漏。晶体管渗漏的减少直接导致了功耗的降低和电池使用时间的延长。

关于Intel65纳米制程技术

Intel65纳米制程采用更高性能、更低功耗的晶体管、Intel第二代应变硅、八层高速铜互联层以及新型低K绝缘材料。使用该制程将使Intel当前的单片晶体管数量(使用Intel90纳米技术)再翻一番。

Intel65纳米制程将采用栅极长度仅为35纳米的新型晶体管，这将是业界体积最小、性能最高的量产CMOS晶体管。比较起来，当前所生产的最先进的晶体管应用于Intel®奔腾®4处理器中，其栅极长度长度为50纳米。体积小、速度快的晶体管是超快速处理器的重要构建模块。

此外，Intel已将其第二代高性能应变硅集成到这些65纳米制程中。应变硅可提供更高的驱动电流，从而提高晶体管的速度，而生产成本仅增加2%。