许久不见，甚是想念。大家好，我是铁头哥。

聊完猴子后，铁头一直在关注芯片行业。一方面，是三星会长李在镕去了一趟ASML，谈的能是采购光刻机的事。另一方面，台积电最近举办了北美技术论坛，公布了不少新工艺。

这两家大厂反应这么大，主要是为了布局未来的2nm制程。如果说以前的90nm，28nm，14nm属于“性能极大改善”的话。3nm、2nm追求的就是“性能和功耗的平衡”。而且由于底层技术难度大，这次带头下场的厂家，可能也不是一个国家、一个企业。

铁头作为一个外行，也斗胆给大家聊聊全球参与的“2nm技术战”。

裤腰带的艺术

很多媒体报道2nm时，都会很简单的搬运厂家的宣传文档：同功耗下我们性能好；同性能下我们功耗低；我们晶体管塞得多，面积大，堆料丰富……

这也难怪，大家买的是手机电脑，不是芯片里的晶体管，知道“性能好还省电”就行。但是铁头觉得设备性能的进步，是技术发展的结果。所以咱就从外行的角度聊一下，芯片制程上去之后，技术是怎么升级的。如有错误，还望海涵。

首先，铁头要问一个问题，为啥最近几年，宣传自己高性能的芯片总是热得烫手？

那我们就得看芯片里面晶体管的结构了，芯片里面的晶体管，是场效应晶体管。有一个源极（Source）、一个漏极（Drain）和一个栅极（Gate）。

电流从源极到漏极，形成了计算回路。栅极就要控制电流，让电流按照设计完成计算。

铁头想了半天，最后认为栅极就是个裤腰带。人穿衣服出门，衣服可以跟随身体自由活动，但是裤腰带要把裤子限制住，不然就会掉裤子光屁股。栅极的作用更复杂，但是原理差不多。

芯片越做越精密，塞下的晶体管越来越多。地方不够了，栅极就会越变越细。衣服上的裤腰带变细了，就更容易松，就得经常提裤子。放到芯片里，栅极太细，电流也会不听话，有了自己的想法，这就是漏电。

芯片漏出来的电，没有别的地方去，就会变成热量消耗掉。乱上加乱的是，温度越高，漏电电流还会上升。漏电和高温相互“帮忙”，左脚踩右脚上天。芯片越来越烫，手机就成了暖宝宝。

上个世纪90年代，整个半导体行业都在为发热问题发愁，甚至认为做到25nm就是极限了。

这个时候，有个叫胡正明的华人教授就说：要不然，我们换个裤腰带试试？

他的想法是，把源极和漏极“凸出来”，让栅极包围住它们俩，增加栅极的接触面积。这就像是把需要自己打结的裤腰带，变成了有弹性的松紧带。“主动”贴合身体，把裤子“固定住”，这不就舒服了吗？

这个结构，看起来就是一个大鱼鳍。所以叫“鳍式场效应晶体管”，也就是FinFET。有了这个技术，才有了后来的14nm，10nm和7nm。

不过这个技术，距离新闻里的2nm还差得远。

三星 vs 台积电：光放话不打架

为啥说FinFET没法做2nm呢？因为这个技术5nm的时候就撑不住了。

之前说了，晶体管的栅极需要防漏电。既然防止漏电，理论上应该是各个方向都不放过。但是FinFET是三方围堵，不是四面环绕。芯片做小了之后，栅极也会变细变小，还是很难限制电流。

为了芯片性能提升，FinFET里面的鳍片数量会下降，这样的话，晶体管驱动电流又会下降，影响性能升级。简单来说，“松紧带”太细太松，穿裤子的人还不敢剧烈运动，因为时间长了还要“掉裤子”。

但是三星和台积电还是要做3nm的，那就要把结构继续升级，把栅极和漏极彻底包裹住，就成了全环栅晶体管（GAAFET）。栅极四面都裹上了，可不就是“全环栅”吗？

如果从显微图上看，这个版本的“裤腰带”，就变成了“带扣皮带”，控制能力更强。但是好手艺往往费人力，这种晶体管要加工的是纳米片，细节上的工艺不好调整。而且由于加工精度高，产品的良率也会下降。

看到这里，铁头也就理解为啥三星不放出3nm的具体时间表，明白台积电为啥在5nm和4nm之间纠结了。人在愤怒的情况下，什么都可能做，就是做不出来数学题，还有芯片。

不过台积电准备的，是2nm芯片，纳米片晶体管（MBCFET）的技术，也还是要看后续的发展。按照魏哲家的说法，台积电的2nm着重于测试载具的设计与实作、光罩制作、以及硅试产。

台积电业务发展副总裁Kevin Zhang表示，CFET只是选项之一，具体生产时间不确定。而且3nm会成为拥有大量需求的长节点，对计算能效有更高要求的客户可以率先转向2nm。翻译出来就是：这两年台积电的目标是3nm，2nm是试着玩的，大家不要想太多。

聊2nm，不能把三星忘了。面对“裤腰带问题”，三星在2021年和IBM提出了很激进的思路：竖着放。根据他们的介绍，传统的CMOS是横向构建的，他们换了个思路，垂直放置。所以叫“垂直输送纳米片”。以前大家都横着系裤腰带，我穿背带裤，就不用考虑“掉裤子”了。

从市场的角度看，VTFET还是离我们太遥远。三星现在关注的还是3nm比较多，很早就使用了MBCFET晶体管。只不过到现在为止，三星放出来的还是时间表和PPT，更加详细的技术解析资料还是比较少，所以还是不能太认真。

以铁头对三星面板技术投入的观察，三星在先期技术路线上的选择是很激进的，抢到先进技术，就要砸大量的资源占山为王。三星在OLED领域当时就是引进日本技术后重金投入，最后砸出了个QD-OLED。这种决心不可小视。

但是三星的良率一直是个问题，之前三星的旗舰移动处理器Exynos 2200就是雷声大雨点小，甚至还有紧急撤销宣发的情况。如果三星内部的力量还不能有效整合，2nm也可能会虎头蛇尾。

诸侯争霸，三家称王

既然说是“全球2nm技术战”了，铁头就再聊聊美国、日本和欧洲的情况。

美国方面，目前英特尔公布的路线图显示，2024年Intel 20A（对标行业的2nm）将会问世，对应的技术叫做“RibbonFET”。首先，这个预期要比台积电2025年的目标提前一年。其次，英特尔的计划是一年实现一个技术节点，要比台积电和三星激进。

铁头对比了一下三星和台积电的进程，发现三星和台积电的节点是2023年实现3nm商用。如果今年年底英特尔能放出自己的4nm工艺。说明英特尔的预定计划已经阶段性完成，会对台积电和三星造成不小的压力。

日本目前在芯片制造产能上，依旧是“白嫖”状态。目前可以确定的新闻是，日美签署了半导体合作基本原则，“最早在2025财年启动国内2纳米半导体制造基地”。

铁头含蓄一点说，这个时间实际已经慢了。因为“启动制造基地”说明修建产线还要花时间，与此同时，之前提到的台积电、三星和英特尔产能已经铺好了。至于日媒长期以来宣称的“半导体上游主导论”，实际也影响不到先进制程。造芯片是能力问题，和有没有原料无关。

欧洲方面，目前可以确定的消息是，英特尔会在欧洲投资800亿建设先进制程工厂，大概率今年开工。欧盟也推进过处理器研发的联合项目，但是2nm的研发预算是……1.1亿美元。结合欧洲半导体企业的主体业务看，欧盟目前还没有一个“带头冲锋”的2nm项目，还需要一年的观察，如果这一年做不出什么，以后也做不出啥了。

不过可以肯定的是，今年年底会是一个关键时间点。虽然台积电刘德音股东大会上才放话，表示“对于日美合作2nm，三星以及英特尔在2纳米技术上的发展，台积电并不会特别担心。”但是2nm时代的技术大战，现在已经拉开序幕了。

撰文：铁头哥

出处：头条号 @科工力量