美国东部时间7月25日(北京时间7月26日)当地时间本周一Intel公司宣布，将投资30亿美元在美国亚历桑那州的Chandler建立新的生产微处理器的工厂。

新的工厂命名为Fab 32，计划在 2007年下半年将采用45纳米制造工艺生产微处理器。这一制造工艺测量出的芯片的平均尺寸为45纳米。目前生产的芯片采用了90纳米和60纳米制造工艺。这些制造工艺在今年的晚些时候将停止使用。

根据摩尔定律，芯片制造商的芯片每二年减少一次它们的平均尺寸，这将提高芯片的性能和增加芯片的信息传输量。并能够在同样尺寸的硅片上冲出更多的芯片从而增加利润。

取得新一代45纳米芯片成功特别困难，因为芯片设计家需要对硅晶体管的能量控制和提高性能等基本的结构进行许多改变，对于这些困难的改变，即使没有出现故障，通常获得成功的公司很少。不得已只有延迟产品的发布。

由于Intel公司一直在考虑在什么地方建造工厂，使得工厂位置的公告延迟了数月。中国、印度、爱尔兰和以色列政府的领导就工厂的位置和Intel公司进行了广泛的磋商。Intel公司已经在以色列和爱尔兰建造了工厂。但在中国和印度这些国家建造工厂将是出乎意料的行动，Intel公司至今在这些国家只是建造一些高科技测试和装配工厂。

Intel公司表示，在亚历桑那州的工厂将提供1000个新的工作岗位。Intel公司技术和制造团队资深副总裁兼总经理Bob Baker表示，因为5月份税金已经削弱了亚历桑那州的预算，亚历桑那州已经同意给Intel公司实行优惠的税金政策。

根据新的法律，Intel公司可以获得10亿美元的资金投资或在支付营业税时的更多的机动性。公司可以通过工厂的产量、员工的数量和美元投资的总数来计算营业税。尽管Intel公司在 Fab 32工厂可以销售更多的芯片产品，但将不会利用销售总数作为依据考虑它的纳税义务。

30亿美元投资的大部分将用于设备的消耗，每个光刻机器的成本可能需要1800万美元或更多。 这些只是几个需要安装的设备组件的一部分。新的工厂将生产300毫米晶圆产品，Intel公司已经有了5个300毫米工厂和几个目前用来生产闪存和其他产品的200毫米晶圆工厂。

Intel公司表示，它还将投资1.05亿美元对新墨西哥州的由临时性测试工厂组成的非活动晶圆工厂进行改造转产。Intel公司首席执行官Paul Otellini 在一份声明中说：“这些投资将决定我们制造网络未来的增长，并将支持我们的平台计划，将给我们提供更多的覆盖产品范围的供应机动性。”。