3月20日，中国台湾当地主管部门已经批准了台积电的申请，允许其在中国大陆采用0.18微米技术生产芯片。有报道称，中国政府也已批准Intel在大连投资25亿建造芯片工厂的计划。

台积电发言人曾晋皓称，最初在2005年提交的这份申请，现在已经获得”台湾政府“批准，公司将在上海的工厂采用0.18微米技术。台积电是在2004年当台湾放松在大陆进行半导体投资的限制后，建立了现在在上海的工厂。

台积电董事长张忠谋表示，在大陆采用的0.25微米生产工艺已经落后，对Intel大陆新工厂的长期影响表示担忧。

不过0.18微米与0.25微米与当前最先进的芯片生产技术相差数代，台积电一直寻求在采用90纳米、65纳米和45纳米技术取得领先。当日在台北股市，台积电股票上涨0.29%收于69.20元新台币/股。