据俄罗斯下诺夫哥罗德策略发展机构的近期公布，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所（IPF RAS）正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用 7nm 生产芯片，可于 2028 年全面投产。
据介绍，他们计划在六年内制作出光刻机的工业原型，首先要在 2024 年开发一台 alpha 机器。之后到 2026 年，alpha 应该被 Beta 所取代。届时所有系统都将得到改进和优化，分辨率也将得到提升，生产力也将提高，许多操作将实现机械自动化。最后一步是为光刻机带来更强的光源、改进的定位和馈送系统，并使得这一套光刻系统能够快速准确地工作。
编译：IT之家
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