11月5日消息 IntelCEO贝瑞特表示，中芯国际在中国部署90纳米芯片生产工艺的行为违反了美国的出口控制法。 今年9月，中芯国际同德州仪器达成协议，双方将共同开发90纳米芯片生产工艺。中芯国际预计将于2005年第一季度开始90纳米芯片的试制生产。

贝瑞特对于中芯国际在德州仪器的帮助下部署90纳米生产工艺的计划表示愤怒，贝瑞特表示，很显然在中国存在着双重标准，中国国内的芯片工厂可以修建90纳米生产工艺工厂，而完全不需要考虑美国出口控制法，而我们却不可以，不实用并且过时的法律让美国芯片厂商在同中国国内厂商竞争时尽处下风。

Intel的发言人表示，该公司将不会就中芯国际的90纳米生产工艺工厂向美国政府提起抗议。前不久有传闻称Intel将在中国修建一家新的工厂，目前该公司已经在中国修建了一家后端封装工厂。该发言人否认了这一传言，他表示Intel五年之内不会在中国内地建厂。(完)